微米級橫向定位精度自動化薄膜厚度測繪系統(tǒng)

產(chǎn)品簡介：

微米級橫向定位精度自動化薄膜厚度測繪系統(tǒng)集成了先進(jìn)的光學(xué)、電子和機(jī)械模塊，可兼用于對無圖形和圖形薄膜（例如微圖形表面、粗糙表面）進(jìn)行精確測量）。

產(chǎn)品型號：

更新時間：2024-11-20

廠商性質(zhì)：代理商

訪問量：391

服務(wù)熱線

4006981718

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產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

實(shí)驗(yàn)室儀器

氣相色譜儀1

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產(chǎn)品介紹

微米級橫向定位精度自動化薄膜厚度測繪系統(tǒng)

FR-Scanner-AIO-Mic-XY200: 微米級橫向定位精度自動化薄膜厚度測繪系統(tǒng)

微米級橫向定位精度自動化薄膜厚度測繪系統(tǒng)

FR-Scanner-AllInOne-Mic-XY200模塊化厚度測繪系統(tǒng)集成了先進(jìn)的光學(xué)、電子和機(jī)械模塊，可兼用于對無圖形和圖形薄膜（例如微圖形表面、粗糙表面）進(jìn)行精確測量）。

將晶圓放置在配備反射率標(biāo)準(zhǔn)件真空吸盤上（晶圓尺寸直徑≤200mm）, 由功能強(qiáng)大的光學(xué)模塊執(zhí)行測量，光斑尺寸可縮小至幾微米。電動平臺提供XY方向 200 毫米的行程，在速度、精度和可重復(fù)性方面具有的性能.

FR-Scanner-AllInOne-Mic-XY200提供了:

o 實(shí)時反射率光譜測量

o 薄膜厚度、光學(xué)參數(shù)、非均勻性測量、厚度測繪

o 使用集成的、USB 連接的高質(zhì)量彩色相機(jī)進(jìn)行成像

o 多種量測參數(shù)廣泛統(tǒng)計數(shù)據(jù)

o 半自動圖案對準(zhǔn)功能用于測量周期性圖形區(qū)域

o 軟件功能，例如："Click2Move “(螢?zāi)稽c(diǎn)擊定位量測點(diǎn))、比例尺

型號

光譜范圍（納米）

光譜儀

光譜儀像素

厚度范圍 (SiO2)

5X- VIS/NIR

10X-VIS/NIR

10X-UV/NIR*

15X- UV/NIR *

20X- VIS/NIR

20X- UV/NIR *

40X- UV/NIR *

50X- VIS/NIR

可分析n & k最小厚度

厚度準(zhǔn)確性(精度)**

光源

顯微鏡模塊

平臺分辨率

絕對精度

晶圓尺寸

參考/暗區(qū)

掃描速度

微米級橫向定位精度自動化薄膜厚度測繪系統(tǒng)規(guī)格pecifications*

UV/VIS

200 – 850

UV/NIR-HR D UV/NIR VIS/NIR

190-1100 200 – 1700 380 –1020

CCD image sensor

NIR

900 – 1700

3648	3648	2048	3648 & 512	3648	3648 & 512	512	3648
4nm – 60μm	4nm – 70μm	4nm – 80μm	4nm – 150μm	10nm – 90μm	15nm–150μm	100nm-150μm	4um – 1mm
4nm – 50μm	4nm – 60μm	4nm – 65μm	4nm – 130μm	10nm – 80μm	15nm–130μm	100nm–130μm	–
4nm – 40μm	4nm – 50μm	4nm – 50μm	4nm – 120μm	–	–	100nm-100μm	–
4nm – 25μm	4nm – 30μm	4nm – 30μm	4nm – 50μm	10nm – 50μm	15nm – 60μm	100nm – 60μm	–
4nm – 4μm	4nm – 4μm	4nm – 5μm	4nm – 6μm	–	–	–	–
–	–	–	–	10nm – 7μm	15nm – 8μm	100nm – 8μm	–
50nm	50nm	50nm	50nm	100nm	100nm	500nm	–

選項

材料在折射率存在一定差異時可同時測量 4 層 (依樣本狀況而異)

0.2% or 1nm 0.2% or 2nm 3nm or 0.3%

Deuterium & Halogen (internal), 2000h (MTBF) Halogen 12V/50W (internal)

配備 2MP/5MP 彩色圖像傳感器的顯微鏡柱，具有寬闊的觀察區(qū)

優(yōu)于0.5μm

±3μm

2 / 3 / 4 / 6 英寸（150 毫米 ) /8 英寸（200 毫米）或最大 200 毫米的任何形狀（不包括參考/暗區(qū)模塊）集成在卡盤上

49 點(diǎn)測量/90 秒（8 寸晶圓）

FR-AutoFocus 100mm 長線性軸，用于自動對焦，具有兩種操作模式：圖像對焦（對比度）/ 反射強(qiáng)度

FR-FilterWheel 電動濾光輪模塊帶有可容納 8個濾光片的插槽由計算機(jī)自動控制: 濾光片尺寸：直徑0.5英寸，直徑 1 英寸（孔徑 23 毫米）

FR-AutoTurret 自動轉(zhuǎn)塔由計算機(jī)控制可容納 4 個物鏡：鏡頭切換速度約為 2.0-3.0 秒

Lenses 長工作距離 VIS/NIR 鏡頭: 5X, 10X, 20X, 40X, 50X

反射式 UV/NIR 鏡頭: 10X, 15X, 25X, 40X

Pump 低噪音真空泵，2.5L/min，真空度-60kPa.

Chucks a) 單直徑晶圓卡盤（4 英寸、6 英寸、200 毫米） b) 帶參考區(qū)域的光掩?？ūP（6 英寸） c) 包括參考區(qū)域和暗區(qū)，用于自動基準(zhǔn)的多晶圓卡盤（100 毫米、150 毫米、200 毫米和不規(guī)則形狀樣本）

Enclosure 外殼帶有聯(lián)鎖裝置，可在裝載晶圓的門打開時激活快門

規(guī)格如有變更，恕不另行通知. 通過定制可以實(shí)現(xiàn)真正的 X-Y 掃描 ** 與校正過的光譜橢偏儀和x射線衍射儀的測量結(jié)果匹配，*超過15天平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差平均值，樣品:硅晶片上1微米SiO2，*標(biāo)準(zhǔn)偏差100次厚度測量結(jié)果，樣品:硅晶片上1微米SiO2, * 15天內(nèi)每日平均值的2*標(biāo)準(zhǔn)差。樣品:硅片上1微米SiO2. *** 還可根據(jù)要求提供適用于 450mm 及雙面拋光硅晶圓的平臺..

測量區(qū)域光斑（收集反射信號的區(qū)域）與物鏡和孔徑大小有關(guān), 標(biāo)準(zhǔn)孔徑尺寸為：500μm（方形）、250μm（方形）、100μm（方形）.250μm為默認(rèn)孔徑值.可根據(jù)要求提供的其他孔徑尺寸：150μm（方形）和 50μm（方形）

物鏡光斑尺寸
Magnification	工作距離(mm)	500	μm孔徑	250	孔徑(默認(rèn))	150	μm 孔徑	100	μm孔徑
5x	45	100 μm		50 μm		30 μm		20 μm
10x	34	50 μm		25 μm		15 μm		10 μm
20x	31	25 μm		14 μm		8 μm		5 μm
50x	20	10 μm		5 μm		3 μm		2 μm